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Gas-Detektion

Riken Keiki

FI-900 Gas-Analysator

Der optische interferometrische Gasanalysator FI-900 von Riken Keiki ist mit einem hochzuverlässigen optischen interferometrischen Sensor ausgestattet. Messprinzip: Die Gaskonzentration wird anhand der Bewegung der Interferenzstreifen ermittelt, die durch den Unterschied der Brechungsindizes von Messgas und Referenzgas entstehen. Der Gasanalysator FI-900 verfügt über erweiterte Selbstdiagnosefunktionen zur ständigen Überwachung von 10 Selbstdiagnoseparametern bei der Diagnose von Betriebsbedingungen des Geräts oder seiner Einsatzumgebung.

Preis und Lieferzeit werden auf Anfrage mitgeteilt
Probenahmeverfahren Art der Absaugung
Prinzip des Nachweises Interferometer-Methode
Explosionsgeschützte Konstruktion Druckfeste Gehäuse
Stromquelle 24 VDC±10
Abmessungen 286 (B) x 453 (H) x 150 (T) mm
Gewicht 23kg
Betriebstemperaturbereich -20...60℃
Bereich der Betriebsfeuchtigkeit 0...95 %RH

Der optische interferometrische Gasanalysator FI-900 von Riken Keiki ist mit einem hochzuverlässigen optischen interferometrischen Sensor ausgestattet. Messprinzip: Die Gaskonzentration wird anhand der Bewegung der Interferenzstreifen ermittelt, die durch den Unterschied der Brechungsindizes von Messgas und Referenzgas entstehen. Der Gasanalysator FI-900 verfügt über erweiterte Selbstdiagnosefunktionen zur ständigen Überwachung von 10 Selbstdiagnoseparametern bei der Diagnose von Betriebsbedingungen des Geräts oder seiner Einsatzumgebung.

Das Riken Keiki FI-900 ist kompatibel mit der Modbus-Kommunikation, um nicht nur die Gaskonzentrationen, sondern auch den Zustand des Messgerätes ständig zu überwachen. Logdaten werden ebenfalls auf dem Messgerät aufgezeichnet und können bei Störungen des Gerätes zur schnellen Ursachenfindung vor Ort überprüft werden. Explosionsgeschützt ATEX/IECEx/Japan Ex. Zielbranchen: Wasserstoffproduktion (Messung der Wasserstoffreinheit), Erdölraffination (Messung der Wasserstoffkonzentration während des Hydrodesulfurierungsprozesses), Petrochemie (Messung der Konzentration von VCM und anderen Prozessgasen), usw.

Zielgas:

1,3-Butadien, 2,3,3,3-Tetrafluorprop-1-en, Aceton, Acetonitril, Acrylnitril, Ammoniak, Benzol, Kohlendioxid, Cyclohexan, Cyclopentanon, Deuterium, Dichlormethan, Dimethylether, Ethan, Ethanol, Ethylacetat, Ethylcyclohexan, Ethylen, Wasserstoff, Isopren, Isopropylalkohol, Methan, Methanol, Methylethylketon, Methylisobutylketon, Methylmethacrylat, Methylcyclohexan, n-Butylacetat, n-Heptan, n-Hexan, n-Propylacetat, Octafluorpropan, Propan, Propylen, R-454C, Styrol, Sulfurylfluorid, Toluol, Trichlorethylen, Vinylchlorid, Xylen

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Sebastian Kelderman

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